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ark 紫外線監(jiān)控器UM365-HM 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學(xué)部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號(hào)，配備通信功能，并以安裝在設(shè)備中為前提進(jìn)行設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間：2024-07-11
ark 白色LED光源檢查臺(tái)型號(hào)LS-HF-W 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學(xué)部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號(hào)，配備通信功能，并以安裝在設(shè)備中為前提進(jìn)行設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間：2024-07-11
ark 白色LED光源檢驗(yàn)用LS-HF-1.5 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學(xué)部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號(hào)，配備通信功能，并以安裝在設(shè)備中為前提進(jìn)行設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間：2024-07-11
ark UV燈標(biāo)準(zhǔn)光源（750W）AT750 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學(xué)部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號(hào)，配備通信功能，并以安裝在設(shè)備中為前提進(jìn)行設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間：2024-07-11
ark UV-LED表面輻照通用MS20LX-365 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學(xué)部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號(hào)，配備通信功能，并以安裝在設(shè)備中為前提進(jìn)行設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間：2024-07-11
ark UV-LED光源點(diǎn)照射通用Awill-V 實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)壽命和高功率??！ 光纖光源類(lèi)型實(shí)現(xiàn)了有史以來(lái)高級(jí)別的照度！ 實(shí)現(xiàn)了 350W 金屬鹵化物燈光源的約 2 到 2.5 倍的照度（與我們公司相比）。 沒(méi)有金鹵燈、氙氣燈、高亮度LED等不可替代的光源。 請(qǐng)借此機(jī)會(huì)嘗試您因光照不足而放棄的項(xiàng)目。
更新時(shí)間：2024-07-11
日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1 東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)光澤出專(zhuān)用機(jī) 用途：支持各種應(yīng)用 特長(zhǎng) -寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換) -搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1) -最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式 -光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周?chē)h(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響
更新時(shí)間：2025-02-22
日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1 東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)超微細(xì)形狀専用機(jī) 用途：支持各種應(yīng)用 特長(zhǎng) -寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換) -搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1) -最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式 -光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周?chē)h(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響
更新時(shí)間：2025-02-22
日本kofloc高精度流量計(jì)RK1400 系列 東洋研磨材TOYO大型工件兼容機(jī)器 ■目標(biāo)流體：氣體N2、空氣、H2、He、Ar、O2、CO2等液體H2O ■最大流量：氣體5mL/min至100L/min、液體5mL/min至2L/min ■精度：±2% FS ?內(nèi)置于設(shè)備中 ?實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的流量確認(rèn)用 ?半導(dǎo)體相關(guān)設(shè)備用 ?生物技術(shù)用
更新時(shí)間：2025-02-22
日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1 東洋研磨材TOYO 出色平衡中型機(jī)器 用途：支持各種應(yīng)用 特長(zhǎng) -寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換) -搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1) -最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式 -光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周?chē)h(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響
更新時(shí)間：2025-02-22
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